“电子化工”是一个对水质要求极其严苛的领域，它横跨了电子半导体和精细化工两个高门槛行业。在这个领域，纯水不仅是清洗剂，更是合成反应的原料。

核心工艺：全膜法 + 抛光技术

电子化工对水质的敏感度是所有行业中最高的。目前最先进的工艺是“双级RO + EDI + 抛光混床 + 超滤”的组合拳。

1. 前端预处理（抗污染）

• 多介质 + 活性炭：去除泥沙和余氯。

• 软化器/加药系统：防止反渗透膜结垢。

• 注意：针对化工原水水质复杂的特性，通常会增加超滤作为保安过滤，确保SDI值达标。

2. 核心脱盐（双级RO + EDI）

• 双级反渗透：去除绝大部分离子和有机物，产水进入EDI。

• EDI (电去离子)：这是目前的主流技术，利用电场连续去除离子，无需酸碱再生，产水电阻率可达15-16 MΩ·cm。

3. 终端抛光

• 抛光混床 (Polisher)：这是电子化工设备的“心脏”。在EDI之后，水必须经过核级抛光混床，将电阻率提升至18.2 MΩ·cm，并深度去除痕量硼、硅离子。

• 超滤 (UF) / 脱气膜：去除水中的微小颗粒（0.05μm级别）和溶解氧，满足SEMI标准。